半导体照明 LED
采用氮化镓基发光二极管作为光源的半导体照明技术,以其节能、高效、寿命长等优点被广泛应用于照明、大屏幕显示、指示灯、背光源等领域,其技术发展迅速、应用领域广泛、产业带动性强、节能潜力大,被公认为具有发展前景的高效照明产业。在LED领域,ICP刻蚀机自面市以来已经实现了两百台的销售突破,其中GaN刻蚀机新增市占率超过80%,成为行业标杆机型;自主开发的应用于LED制程的AlN缓冲层沉积设备,引领LED领域技术发展,凭借其优越的性能,成为客户信赖的技术创新产品。
化学气相沉积设备 CVD

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EPEE550 是应用于LED、Power、MEMS等领域氧化硅SiO2、氮化硅SiNx、氮氧化硅SiON薄膜沉积的PECVD设备。
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EPEE i800 PECVD系统,是实现LED领域PSS复合衬底SiO2厚膜工艺高速沉积的专业镀膜设备。
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APS系列SiC晶体生长系统,是实现高质量SiC晶体生长、高纯度原料合成、高温晶体热处理的专业设备。